Trwch ffilm delfrydol ar gyfer platio arian gwactod

Trwch ffilm delfrydol ar gyfer platio arian gwactod

Mae trwch yn cyfeirio at y pellter rhwng dwy awyren gyfochrog berffaith wastad, ac mae'r cysyniad hwn yn gysyniad geometregol. Mae'r trwch ffilm delfrydol yn cyfeirio at y pellter rhwng wyneb y swbstrad ac arwyneb y ffilm. Yn y mesuriad tri dimensiwn o dopograffeg ffilm, o'i gymharu â thrwch y ffilm, gellir dweud bod y mesuriadau dau ddimensiwn eraill yn anfeidrol. Oherwydd bod yr arwyneb gwirioneddol yn anwastad ac yn amharhaol, a gall fod mandyllau, amhureddau, diffygion dellt a moleciwlau arsugniad wyneb yn y ffilm, rhaid diffinio holl drwch y ffilm yn llym a'i fesur yn gywir. yn anodd iawn. Dylid pennu rhan diffiniad trwch y ffilm yn ôl dull y mesuriad cyfeiriad a phwrpas y mesuriad cyfeiriad. Felly, bydd yr un ffilm, gan ddefnyddio gwahanol ddulliau mesur, yn cael canlyniadau gwahanol, hynny yw, gwahanol drwch.

Cotio sputtering adweithiol silvering gwactod

Y cyntaf yw defnyddio targedau cotio cyfansawdd. Yn ystod sputtering, mae'r cyfansawdd targed yn cael ei ddadelfennu oherwydd effaith peledu ïon. Er enghraifft, ar ôl defnyddio argon pur fel y nwy sputtering, bydd cymhareb stoichiometrig y ffilm sydd newydd ei gynhyrchu yn cael ei ystumio. Er mwyn gwneud iawn am golli cydrannau hysbys, gellir ychwanegu rhywfaint o nwy adweithiol at argon i gynhyrchu cyfansoddion, er mwyn sicrhau bod cyfansoddiad yr haen ffilm yn aros yr un fath.

Yr ail yw defnyddio metel pur, aloi neu gymysgedd fel targed cotio, mewn awyrgylch sputtering cymysg sy'n cynnwys nwy anadweithiol a nwy adweithiol, trwy sbuttering ac adwaith cemegol i gael y ffilm gyfansawdd.

Y prif wahaniaeth rhwng y ddwy ffurf yw'r gyfradd dyddodiad a'r pwysedd nwy adwaith. Y nwyon adweithiol y gellir eu defnyddio ar gyfer sputtering adweithiol yw: aer, ocsigen neu anwedd dŵr (i gynhyrchu ffilm ocsid), nitrogen neu NH3, (i gynhyrchu ffilm nitrid), ocsigen ynghyd â nitrogen (i gynhyrchu ffilm ocsinitrid), H2S (i gynhyrchu ffilm sylffid) ), Fel (cynhyrchu ffilm arsenig), ac ati Rhaid i rai o'r nwyon hyn roi sylw i faterion diogelwch sy'n cael eu defnyddio.

Ar hyn o bryd, mae diamedr y targed sputtering magnetron silindrog wedi cyrraedd 2.5 metr, ac mae hyd y targed sputtering magnetron planar wedi cyrraedd 6.5 metr. Mae dyfodiad targedau sputtering magnetron ardal fawr pŵer uchel wedi agor llwybr eang ar gyfer cymwysiadau mewn cynhyrchu diwydiannol cyfaint uchel.

www.superbheater.com